「外国特許出願 米国 vs. 中国
〜緩い国と厳しい国である米中の審査対応実務について考える〜」
開催日 2014年11月26日(水)
講師：レクシア特許法律事務所
弁理士 立花 顕治、 弁理士 山下 未知子
近年、外国出願は、出願国が増加する傾向にありますが、日本の出願人による外国出願では、米国への出願件数が最も多く、次いで中国への出願となっております。特に、中国への出願件数は増加の一途を辿っています。そのため、外国出願を行う場合、米国と中国へパリルートで出願したり、あるいはPCTの国内移行で米国と中国を指定することがよくあります。
しかしながら、米国と中国では、言語が相違するのは勿論のこと、出願の手続、審査の内容も全く相違します。特に、米国は何かと手続が緩く、例えば、補正の制限が非常に緩くなっています。一方、中国は手続が厳しく、補正の制限も厳しくなっております。このように、米国と中国とは、制度的に正反対の実務を要求されることがあり、これらの国への出願を同時に進める場合には、各国の実務を十分に考慮の上、慎重に対応する必要があります。
本セミナーでは、機械・電気分野について、特に留意すべき米国と中国の実務を取り上げるとともに、最新の裁判例などに即した実務を説明いたします。
皆さまのご参加を、心よりお待ち申し上げます。
詳細は下記URLをご参照ください。
http://www.lexia-ip.jp/Lexia_seminar/30th_seminar.pdf
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