台湾意匠商標セミナーのご報告

松井です。

昨日は、台湾のTsai, Lee & Chen事務所とレクシアとの共催で、台湾意匠商標セミナー開催しました。
（Tsai, Lee & Chen事務所は、今年三月に、Managing Intellectual Property誌が選ぶ、台湾の“The Firm of the Year 2014” を受賞されました。Congratulations!）

前半は、台湾商標と台湾意匠の実務について、陳瑞媛先生（ Ms. Crystal J. Chen）と劉勝芳先生（Mr. Sang Fang Liu）に解説いただきました。

【Ms. Crystal J. Chenによる台湾商標の講演】

台湾商標は、2012年7月1日に改正されており、日本商標とは異なる色々な規定がちりばめられていて、今回の講義は私自身も非常に勉強になりました。特に、日本企業は、アルファベットと漢字の二段書きで台湾で商標登録を取得するケースがよくありますが、この場合、アルファベットと漢字の両方を商品に使用していなければ不使用取消を免れないなど、日頃の業務でも気になる点について、解説いただきました。また、台湾商標は、商標権侵害行為として、混同行為の他にもダイリューション行為（識別力を毀損する行為）も規定されている点が大きく日本商標と異なる点であります。

台湾意匠についても、2013年改正法の内容について解説いただきました。図面要件や部分意匠の取扱い、画像意匠の取扱いなどについて解説いただきました。

後半は、李世章先生（Mr. Victor S.C. Lee）から台湾での知財訴訟の概説と、商標意匠の侵害事件の事例をご紹介いただきました。商標事件ではダイリューション行為が商標権侵害になりますので、非類似物品への使用行為や信用毀損行為の商標権侵害体系についての解説が日本と異なるので興味深かったです。

【Mr. Victor S.C. Leeによる台湾知財訴訟の講演】

最後は、パネルディスカッションということで、小生が質問者となって、Tsai, Lee & Chen の先生方に質問させていただきました。台湾での商標類否の考え方（外観重視）、同意書やアサインバックの取扱いなど、日本とは全く異なるシステムになっていますので、注意が必要です。

【パネルディスカッション】

商標のところで時間がかかってしまい、意匠では画像意匠について質問するのが精一杯でしたが（私の時間配分ミスです。反省。。）、画像意匠は物品名を工夫することにより、物品を超えて権利を行使できるようになるなど、有意義な話を聞くことができました。

最後に、レクシアの会議室で記念撮影。

Tsai, Lee & Chenの先生方、大変ありがとうございました！
また、ご来場いただきました皆様もありがとうございました！

松井宏記


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