こんにちは、石上です。
本ブログではチラチラと登場させてもらっていますが、多くの方に知ってもらうべく、少しだけ自己紹介をさせていただきます。
小生は、同志社大学法学部を卒業後、大阪大学大学院法学研究科知的財産法プログラムを修了し、数か月前に弁理士登録を済ませばかりの新人弁理士です。
弊所代表パートナーの立花と山田は実務を行う傍ら、大学院で教鞭を執っておりますが、小生はその授業を受講する生徒でした。（手前味噌かもしれませんが…）在学中の両名による情熱的な指導に啓発され、レクシア特許法律事務所への入所を志願し、現在に至るという経緯であります。
分野としては、主に意匠・商標に携わっておりますが、不競法や著作権法、修士論文のテーマである種苗法などについても幅広く勉強を続けていきたいと思っております。皆さま、これからどうぞよろしくお願いします。
と、前置きが長くなりましたが、本題に入りたいと思います。
先週、松井は中国商標年次大会＠昆明に参加しておりましたが、小生は日本商標協会年次大会＠名古屋に参加してきました。
これは、その名の通り、日本商標協会によって年に一度開催されるパーティーのようなものでして、ここでは企業の方々や学者、弁護士、弁理士などの商標関係者が一同に会します。
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その中には、業界の著名人がたくさんおられ、書籍の著者として名前しか知らないような方々に実際にお目見えすることができたのですが、これは大変良い経験となったように思います。有名な先生方を目の当たりにし、勝手に身近な存在に感じることで、何か漠然とした距離感のようなものを得ることができたからです。
２日目は、北海道大学の田村先生と立命館大学の宮脇先生のご両名による講義がありました。
前日の社交的な場とは打って変わって、５時間にも及ぶ学術的な講義は少々堪えましたが…興味深いお話を聞くことができて非常に勉強になったように思います。ちなみに、小生は学部生時代にご両名の特別授業を受けておりますので、あの頃を思い出しながら一人懐かしく受けておりました。
本来であれば、ぺーぺーの弁理士が参加できるような集まりでもなかったのですが、このような場に参加することができ、ますますやる気が高まりました。
まずは、１日でも早く一人前に実務がこなせるよう努力していきたいと思います！
石上和輝
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