９月２日から９月８日まで、中国雲南省昆明市で開催された中国商標年次大会に参加してきました（その間、本ブログをお休みしていました）。
小生は、日本弁理士会訪中団の一員として参加してきました。
【オープニングセレモニーの様子】
中国商標年次大会は、国家工商行政管理総局が主催（国家機関が主催）、中華商標協会・中国商標局・中国商標評審委員会他が後援になっています。
要は、中国商標の国家的イベントです。
今年は、中国商標法施行30周年ということで、国家工商行政管理総局の副局長が挨拶され、その他、地元雲南省の工商行政管理局の方々の話もありました。
内容の方では、WIPO, OHIM, USPTO, KIPO, 日本知財高裁，日本国特許庁等の外国諸団体からも代表の方々が論壇で各種商標のトピックスについてプレゼンテーションを行っていました。
中国の現場からは、北京市高級人民法院の裁判長、中国商標局、公安の方々が中国商標の現場の話、改正の話等をしていました。実務的な情報満載で有益でした。また、質疑応答も大盛り上がりで、中国商標関係者の関心の高さが伺えました。
【論壇の様子】
特に、地理的表示や証明商標の保護について、活発な議論が行われていました。
小生は、中華商標協会と日本弁理士会のクローズドミーティングにおいて、日本における剽窃商標出願への対応ということで、剽窃商標登録の登録取消、権利行使対応等の観点から簡単なプレゼンテーションをさせていただきました。
・・年次大会の後は、少しだけ足を伸ばして、石林まで行きました。
【石林】
ユネスコ世界遺産です。石が林のように林立する素晴らしい風景に感動しました。
来週から、またパワーアップして実務に臨めそうです！
松井宏記
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