中国商標セミナーのご案内

弊所主催の中国商標セミナーが　下記の通り開催されます。

テーマ：LEXIA & DAYUP 中国商標セミナー「最前線の中国商標保護戦略」
日時：2012年2月17日（金）13:30-16:45
場所：中之島インテス10階会議室
費用：無料
参加者：企業の知財関係者の方

現場の生のご質問をいただいております。
パネルディスカッションでは、そのご質問にお答えいたします。

実務情報満載のセミナーですので、是非ご参加ください。

お申し込みはこちらから。
http://www.lexia-ip.jp/China_trademark_seminar.pdf